半导体FAB厂纯水站升级紫外线TOC降解系统
在半导体制造领域，超纯水的质量对芯片生产的良率和性能起着决定性作用。其中，总有机碳（TOC）作为衡量超纯水纯度的关键指标之一，其含量必须被严格控制在极低水平。

半导体FAB厂纯水站升级紫外线TOC降解系统

半导体FAB厂纯水站升级紫外线TOC降解系统

一、紫外线 TOC 降解系统的工作原理 1-5-3-6-9-1-8-7--10-6

紫外线 TOC 降解系统主要利用 185nm 波长的紫外线来实现对水中有机物的降解。当 185nm 紫外线照射到水中时，首先与水分子发生作用。高能量的紫外线光子能够打断水分子的化学键，促使水发生均裂反应，产生羟基自由基（・OH）、氢原子（H・）和水合电子（eaq）等活性中间体。这些活性中间体具有的氧化性和反应活性。水中的有机物（TOC）遇到这些活性中间体后，会发生亲电、亲核或电子转移反应。在一系列复杂的化学反应过程中，有机物分子的化学键被逐步打断，结构被破坏，最终被氧化分解为二氧化碳（CO₂）和水（H₂O），从而实现了 TOC 的高效降解，大幅降低超纯水中的有机物含量，满足半导体制造对水质的严苛要求。

二、升级紫外线 TOC 降解系统的优势

1. 高效降解：能快速有效地将超纯水中的有机物分解，可使 TOC 含量降低至 ppb 级别甚至更低，显著提升超纯水的纯度，极大减少因 TOC 导致的芯片制造缺陷，提高芯片良率。

2. 环保无污染：在处理过程中，仅利用紫外线和水的反应来降解有机物，无需添加任何化学药剂，既不会引入新的杂质污染水质，也不会产生化学残留对环境造成危害，符合半导体行业绿色生产的理念。

3. 稳定性强：系统结构相对简单，关键部件如紫外线灯管等技术成熟，运行稳定性高。通过合理的设备选型和维护计划，可确保长期稳定运行，减少设备故障对生产的影响，保障纯水站持续供应高质量超纯水。

4. 适配性佳：紫外线 TOC 降解系统可以灵活地与纯水站现有的预处理、反渗透、离子交换等工艺模块相结合，形成协同处理效果。例如，在反渗透前使用紫外线对原水进行预处理，可降低有机物对反渗透膜的污染风险，延长膜的使用寿命；在离子交换后进一步降解残留的有机物，确保最终出水的 TOC 达到极低水平。同时，该系统可根据纯水站的实际流量需求和水质情况进行模块化设计和配置，方便系统的扩容和升级。